Silicon on insulator (SOI) es una tecnología de fabricación microelectrónica en la que se sustituye el sustrato tradicional de fabricación de obleas de silicio monocristalino, por un sándwich de capas de semiconductor-aislante-semiconductor. Esta técnica reduce las capacidades parásitas de los circuitos fabricados, reduce el riesgo de latch-up en los circuitos lógicos CMOS, y mejora la escalabilidad de los circuitos integrados.
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